公司定位:华海清科是国内CMP(化学机械抛光)设备绝对龙头,2025年半导体装备营收40.54亿(占87.22%),半导体服务5.94亿(占12.78%)。CMP设备累计出机超1000台,全面覆盖逻辑、3D NAND、DRAM等主流制程。平台化拓展至减薄装备(Versatile系列)、离子注入装备(芯嵛半导体)、划切/湿法装备等第二曲线产品。
2025年业绩:营收46.48亿(+36.46%),归母净利润10.84亿(+5.89%),毛利率41.81%(同比-1.39pct),净利率23.31%(同比-6.74pct)。利润增速远低于营收增速,主要因成本增速(40.06%)超过营收增速(36.46%)且先进制程验证投入加大。
财务特征:2020年所得税=0、2021年所得税为负值(递延所得税资产增加),实际有效税率约8-10%(法定优惠税率15%)。
减薄机累计出机
20+台
Versatile-GP300
历年增长与盈利变化(万元)
| 年份 | 营业收入 | 营收增速 | 归母净利润 | 净利增速 | 毛利率 | 毛利率变动 |
| 2020 | 38,589.19 | — | 9,778.77 | — | 38.17% | — |
| 2021 | 80,488.05 | +108.58% | 19,827.67 | +102.76% | 44.73% | +6.56pct |
| 2022 | 164,883.83 | +104.86% | 50,160.10 | +152.98% | 47.72% | +2.99pct |
| 2023 | 250,799.11 | +52.11% | 72,374.66 | +44.29% | 46.02% | -1.7pct |
| 2024 | 340,622.86 | +35.82% | 102,340.79 | +41.4% | 43.2% | -2.82pct |
| 2025 | 464,822.77 | +36.46% | 108,372.47 | +5.89% | 41.81% | -1.39pct |
2025年营收增长36.46%但净利仅增5.89%,主要因成本增速(40.06%)超营收增速(36.46%)
毛利率从2022年峰值47.72%持续下行至2025年41.81%,反映先进制程验证投入增加及产品结构变化
历年财务数据汇总(万元)
| 年份 | 营业收入 | 营业成本 | 毛利润 | 毛利率 | 净利率 | 利润总额 | 所得税 | 归母净利润 | 有效税率 |
| 2020 | 38,589.19 | 23,860.51 | 14,728.68 | 38.17% | 25.34% | 9,778.77 | 0.00 | 9,778.77 | 0.0% |
| 2021 | 80,488.05 | 44,486.09 | 36,001.96 | 44.73% | 24.63% | 19,581.59 | -246.07 | 19,827.67 | -1.26% |
| 2022 | 164,883.83 | 86,197.56 | 78,686.27 | 47.72% | 30.42% | 55,688.63 | 5,528.53 | 50,160.10 | 9.93% |
| 2023 | 250,799.11 | 135,389.99 | 115,409.12 | 46.02% | 28.86% | 78,983.47 | 6,608.81 | 72,374.66 | 8.37% |
| 2024 | 340,622.86 | 193,465.07 | 147,157.79 | 43.2% | 30.05% | 111,828.80 | 9,488.01 | 102,340.79 | 8.48% |
| 2025 | 464,822.77 | 270,463.23 | 194,359.54 | 41.81% | 23.31% | 119,812.36 | 11,469.55 | 108,372.47 | 9.57% |
数据来源:新浪财经年报利润表(688120)
2020年所得税=0(享受税收优惠政策+递延所得税调整),2021年所得税=-246.07万(递延所得税资产增加)
实际有效税率约8-10%,法定优惠税率15%(高新技术企业)
2025年归母净利润108,372.47万(含少数股东损益-29.66万,总净利润108,342.81万)
产品架构:华海清科2025年报将业务分为半导体装备(40.54亿,87.22%)和半导体服务(5.94亿,12.78%)两大类。
半导体装备:以CMP抛光装备为核心(占装备营收90%+),新增减薄装备(Versatile-GP300/GM300/GH300/GN200系列)、离子注入装备(芯嵛半导体,2025年收入1.16亿)、划切装备等平台化产品。
半导体服务:包括晶圆再生(天津20万片/月满产)、关键耗材(抛光头/保持环/气膜等高毛利耗材)、维保服务、技术服务。服务毛利率48.21%,高于装备毛利率40.88%,体现高粘性高利润特征。
产品营收构成(万元)
| 年份 | 总营收 | 半导体装备 | 装备占比 | 半导体服务 | 服务占比 | 装备毛利率 | 服务毛利率 | 离子注入 | 数据来源 |
| 2020 | 38,589 | ≈36,000 | ≈93% | ≈2,589 | ≈7% | ≈38% | N/A | — | 年报估算 |
| 2021 | 80,488 | ≈75,000 | ≈93% | ≈5,488 | ≈7% | ≈45% | N/A | — | 年报估算 |
| 2022 | 164,884 | ≈155,000 | ≈94% | ≈9,884 | ≈6% | ≈48% | N/A | — | 年报估算 |
| 2023 | 250,799 | ≈224,000 | ≈90% | ≈26,799 | ≈11% | ≈46% | N/A | — | 年报估算 |
| 2024 | 340,623 | 298,700 | 87.7% | 41,900 | 12.3% | ≈43% | N/A | — | 2024年报+研报 |
| 2025 | 464,823 | 405,405 | 87.22% | 59,418 | 12.78% | 40.88% | 48.21% | 1.16亿 | 2025年报 |
2020-2023年分产品数据为估算值(年报未单独披露装备与服务营收明细),已标注"≈"
2024年:CMP/划切装备29.87亿(87.7%),配套材料及技术服务4.19亿(+81.92%)
2025年:半导体装备40.54亿(含离子注入1.16亿),半导体服务5.94亿(+41.8%)
服务类业务营收增长(亿元)
服务类业务包括:晶圆再生、关键耗材(抛光头/保持环/气膜等)、维保服务、技术服务
2024年配套材料及技术服务4.19亿(+81.92%),2025年半导体服务5.94亿(+41.8%)
服务毛利率48.21%(2025年),高于装备40.88%,体现耗材/维保的高粘性高利润特征
CMP装备:华海清科CMP设备是国内唯一能提供12英寸CMP整机的厂商,累计出机超1000台(截至2026年4月),覆盖逻辑、3D NAND、DRAM等全部主流制程。国内CMP设备市场华海清科占国产份额90%+。
平台化拓展:减薄装备Versatile-GP300累计出机超20台,减薄贴膜GM300已批量发货,亚微米减薄GH300首台出机(面向先进存储),化合物减薄GN200首台出机;离子注入(芯嵛)12英寸大束流全系列覆盖,2025年营收1.16亿。
销量估算说明:公司年报未披露各年精确CMP设备销量台数,下表为基于营收÷均价的估算值,仅供参考。
CMP设备累计出机量里程碑
| 时间节点 | 累计出机量 | 意义 | 数据来源 |
| 截至2020年9月 | 43台 | IPO申报期,CMP国产化起步 | IPO招股说明书 |
| 截至2026年4月 | 超1000台 | 规模化量产,覆盖全部主流制程 | 公司公告 |
从43台到超1000台,5年半时间增长超23倍,体现CMP国产替代加速趋势
CMP设备年度销量估算(台)
| 年份 | 总营收(亿) | CMP装备营收估算(亿) | 年均单价估算(万/台) | 年度销量估算(台) | 营收增速 | 备注 |
| 2020 | 3.86 | ≈3.60 | ≈1,400 | ≈25 | — | IPO期,累计43台 |
| 2021 | 8.05 | ≈7.50 | ≈1,200 | ≈60 | +108.6% | 营收翻倍 |
| 2022 | 16.49 | ≈15.50 | ≈1,100 | ≈140 | +104.9% | 再翻倍 |
| 2023 | 25.08 | ≈22.40 | ≈1,000 | ≈220 | +52.1% | 成熟制程放量 |
| 2024 | 34.06 | ≈29.87 | ≈1,000 | ≈300 | +35.8% | 含划切装备 |
| 2025 | 46.48 | ≈39.38 | ≈1,000 | ≈400 | +36.5% | 含离子注入1.16亿 |
⚠️ 年度销量和均价为估算值,公司年报未披露各年精确CMP设备销量台数
估算逻辑:CMP装备营收÷年均单价(约1000-1400万/台),含成熟制程+先进制程混合
CMP设备单价随型号差异较大:标准机型约800-1200万/台,先进制程机型可能更高
减薄机Versatile-GP300单台价值超5000万元(
东海证券研报)
平台化产品出货进展
| 产品类型 | 型号 | 进展 | 应用领域 | 数据来源 |
| 减薄装备 | Versatile-GP300 | 累计出机超20台(2025年末) | 12英寸通用减薄 | 2025年报+东海证券研报 |
| 减薄贴膜一体机 | Versatile-GM300 | 已批量发货,首台验收完成 | 减薄+贴膜一体化 | 2025年报 |
| 亚微米减薄 | Versatile-GH300 | 首台正式出机 | 面向先进存储 | 2025年报 |
| 化合物减薄 | Versatile-GN200 | 首台2026年4月出机 | 化合物半导体 | 公司公告 |
| 离子注入 | 芯嵛全系列 | 12英寸大束流全系列覆盖 | 2025年营收1.16亿 | 2025年报+华西证券 |
| 划切装备 | — | 进入验证阶段 | 晶圆划切 | 2025年报 |
| 边抛/湿法装备 | — | 多个型号进入验证 | 边缘抛光/湿法清洗 | 2025年报 |
华海清科2025年完成芯嵛半导体100%控股,离子注入装备成为正式第二曲线产品
减薄装备系列从GP300到GH300/GN200,覆盖通用→先进存储→化合物全场景
晶圆再生:天津基地20万片/月已满产,昆山扩产项目规划总产能40万片/月(首期20万片/月),建成后南北协同总产能60万片/月。晶圆再生已获得多家头部晶圆厂批量长期订单。
CMP装备产能:研磨抛光装备产业基地已投产运营,持续扩产中。CMP设备累计出机超1000台。
离子注入:2025年完成芯嵛半导体100%控股,离子注入装备进入规模化量产阶段,2025年营收1.16亿。
晶圆再生产能数据
| 基地 | 现有产能(万片/月) | 规划总产能(万片/月) | 首期建设(万片/月) | 状态 | 数据来源 |
| 天津基地 | 20 | 20 | — | 已满产 | 2025年报+东海证券研报 |
| 昆山基地 | — | 40 | 20 | 建设中(2025年6月启动) | 公司公告 |
天津基地20万片/月已满产,昆山首期20万片/月建成后南北总产能60万片/月
晶圆再生全球市场规模约38.6亿元(2025年)
产能扩张与投资计划
| 项目 | 产品 | 规划产能/规模 | 进度 | 数据来源 | 来源链接 |
| 昆山晶圆再生扩产 | 晶圆再生服务 | 40万片/月(首期20万) | 2025年6月启动,建设中 | 公司公告(2025-06-27) | 链接 |
| 研磨抛光装备产业基地 | CMP装备 | 持续扩产 | 已投产运营 | 年报 | — |
| 离子注入(芯嵛100%控股) | 离子注入装备 | 规模化量产 | 2025年完成100%控股 | 2025年报 | 同花顺F10 |
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